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商標法第二十一條立法沿革
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商標法第21條規定： 於中華民國政府主辦或認可之國際展覽會上，展出使用申請註冊商標之商品或服務，自該商品或服務展出日後六個月內，提出申請者，其申請日以展出日為準。 前條規定，於主張前項展覽會優先權者，準用之。 說明： =民國19年4月26日制定條文 商標專用或其專用期間續展之註冊，違背第一條至...
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商標法第21條規定： 於中華民國政府主辦或認可之國際展覽會上，展出使用申請註冊商標之商品或服務，自該商品或服務展出日後六個月內，提出申請者，其申請日以展出日為準。 前條規定，於主張前項展覽會優先權者，準用之。 說明： =民國19年4月26日制定條文 商標專用或其專用期間續展之註冊，違背第一條至...
