專利法第一百零二條之一立法沿革

專利法第102-1條規定：

專利專責機關於審查新型專利時，得依職權或依申請通知申請人或異議人限期為下列各款之行為：
一、至專利專責機關面詢。
二、為必要之實驗、補送模型或樣品。
三、補充或修正說明書或圖式。
前項第二款之實驗或補送模型或樣品，專利專責機關必要時得至現場或指定地點實施勘驗。
依第一項第三款所為之補充或修正，不得變更申請案之實質。於審定公告後提出之補充、修正，並須有下列各款情事之一始得為之：
一、申請專利範圍過廣。
二、誤記之事項。
三、不明瞭之記載。

說明： 

專利專責機關於審查新型專利時，得依職權或依申請通知申請人或異議人限期為下列各款之行為：
一、至專利專責機關面詢。
二、為必要之實驗、補送模型或樣品。
三、補充或修正說明書或圖式。
前項第二款之實驗或補送模型或樣品，專利專責機關必要時得至現場或指定地點實施勘驗。
依第一項第三款所為之補充或修正，不得變更申請案之實質。於審定公告後提出之補充、修正，並須有下列各款情事之一始得為之：
一、申請專利範圍過廣。
二、誤記之事項。
三、不明瞭之記載。
理由-

一、本條新增。
二、新型專利之補充、修正原係透過現行條文第一百零五條準用第四十四條發明專利之規定，本次修正發明採早期公開制，業修正現行條文第四十四條並增訂第四十四條之一，新型在性質上無從準用，爰增訂本條，俾作為新型專利補充、修正依據。